Dây chuyền phủ liên tục phún xạ PVD Magnetron hiệu quả là một hệ thống sản xuất chuyên môn cao, chủ yếu được sử dụng để lắng đọng một hoặc nhiều lớp màng chức năng cực mỏng trên bề mặt các chất nền (như thủy tinh, nhựa, kim loại, gốm, wafer bán dẫn, v.v.).
Cốt lõi của nó là làm bay hơi hoặc ion hóa vật liệu phủ thông qua các phương pháp vật lý khác nhau trong môi trường chân không cao, sau đó ngưng tụ thành một lớp màng trên bề mặt chất nền.
Ứng dụng:
Lớp phủ chân không bằng đồng, bạc và các vật liệu dẫn điện khác trên bề mặt gốm sứ linh kiện điện và gốm sứ bảng mạch.
Nó cũng thích hợp để lắng đọng chân không các lớp màng kim loại khác nhau trên bề mặt của tấm khác-như phôi (thủy tinh, bảng acrylic, v.v.);
Các tính năng chính:
Từ trường giam giữ plasma
Đây là đặc điểm cốt lõi của phún xạ magnetron. Bằng cách áp dụng một từ trường mạnh có hình dạng cụ thể (thường là hình vòng hoặc hình đường đua) gần bề mặt mục tiêu, các electron bị giam giữ gần bề mặt mục tiêu để tạo ra chuyển động xoắn ốc, làm tăng đáng kể khả năng va chạm và ion hóa của các electron với các nguyên tử khí đang hoạt động (thường là argon).
Tốc độ ion hóa cao và tốc độ lắng đọng cao
Sự giam cầm từ trường làm tăng đáng kể mật độ plasma và tốc độ ion hóa, làm cho quá trình phún xạ hiệu quả hơn.
Điều này có nghĩa là ở áp suất khí tương đối thấp và điện áp/công suất phún xạ thấp, có thể đạt được tốc độ phún xạ và lắng đọng cao hơn nhiều so với phún xạ DC thông thường.
Quá trình nhiệt độ thấp
Vì phần lớn năng lượng được sử dụng để ion hóa khí và làm phún xạ các nguyên tử mục tiêu nên tương đối ít nhiệt được truyền đến chất nền.
Chất lượng phim tốt
Mật độ tốt, độ bám dính mạnh, độ tinh khiết cao và độ đồng đều tốt.
Khả năng thích ứng vật liệu rộng rãi
Khả năng kiểm soát quy trình tốt
Dây chuyền sản xuất lớp phủ phún xạ magnetron đã trở thành một trong những công nghệ chủ đạo để điều chế màng mỏng chức năng (chẳng hạn như màng quang học, màng dẫn điện, màng cứng chống mài mòn, màng trang trí, màng chống{1}}ăn mòn, màng từ tính, màng bán dẫn, v.v.) trong ngành công nghiệp hiện đại nhờ các tính năng và ưu điểm cốt lõi của nó như tốc độ lắng đọng cao, quy trình nhiệt độ thấp, chất lượng màng tuyệt vời (nhỏ gọn, bám dính mạnh), khả năng thích ứng vật liệu rộng, tính đồng nhất tốt và khả năng kiểm soát. Nó có ứng dụng cực kỳ rộng rãi trong vi điện tử, màn hình phẳng, pin mặt trời, lớp phủ công cụ, phụ tùng ô tô, bao bì, trang trí, thiết bị quang học và các lĩnh vực khác.
Chú phổ biến: dây chuyền phủ liên tục phún xạ pvd magnetron hiệu quả, nhà sản xuất, nhà cung cấp, nhà máy sản xuất dây chuyền phủ liên tục phún xạ pvd magnetron hiệu quả của Trung Quốc
