Nguyên tắc làm việc của thiết bị phun từ tính dựa trên chuyển động trôi dạt E × B của các electron dưới tác động của điện trường và từ trường. Các ion được tạo ra bởi sự va chạm của các electron và các nguyên tử argon, bắn phá vật liệu mục tiêu để khiến nó gây ra và lắng đọng trên đế để tạo thành một màng mỏng. Đối với các mục tiêu cách điện có độ dẫn kém, việc phun tần số vô tuyến (RF) là cần thiết để duy trì quá trình phun.
